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【題目】硅是人類文明發(fā)展的重要元素之一，從傳統(tǒng)材料到信息材料的發(fā)展過程中創(chuàng)造了一個又一個奇跡。

（1）工業(yè)生產粗硅的反應有：

SiO2+2CSi（粗）+2CO↑

SiO2+3CSiC+2CO↑

兩個反應的氧化劑分別為____、___。若產品中單質硅與碳化硅的物質的量之比為1：1，則參加反應的C和SiO2的質量之比為___。

（2）工業(yè)上可以通過如下圖所示的流程制取純硅：

①若反應I為Si（粗）+3HClSiHCl3+H2，則反應II的化學方程式為____。

②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質，寫出該反應的化學方程式：_____。

【答案】SiO2 C 1:2 SiHCl3+H2Si（純）+3HCl SiHCl3+3H2O＝H2SiO3+3HCl+H2↑

【解析】

（1）根據(jù)方程式中碳和二氧化硅、硅、碳化硅之間的關系式計算；

（2）①根據(jù)反應物、生成物和反應條件寫出反應方程式；②SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和氫氣；

（1）根據(jù)反應方程式生成1mol Si需C 2mol、SiO21mol，生成1mol SiC需C 3mol，SiO21mol，產品中Si與SiC的物質的量之比為1：1，則參加反應的C和SiO2物質的量之比為5：2，所以質量之比為：5×12：2×60=1：2，
（2）①由工藝流程可知，反應Ⅱ是氫氣與SiHCl3反應生成Si（純）、HCl，反應方程式為：SiHCl3+H2Si（純）+3HCl；

②SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和氫氣：3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl，

練習冊系列答案
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A. 根據(jù)鐵比銅金屬性強，在實際應用中可用FeCl3腐蝕Cu刻制印刷電路板

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C. 用稀鹽酸除去銅銹的離子方程式為CuO＋2H＋===Cu2＋＋H2O

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已知：i、（R、表示烴基或氫）

ii、

請回答：

(1)A屬于芳香烴，名稱是______。

(2)J中所含官能團是______。

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（2）寫出通入X和Y的化學反應方程式_____。

（3）操作Z____(填名稱)，為了得到化肥(NH4Cl)，需要在溶液B中通入NH3、加食鹽，其中通入NH3的作用一____，作用二____。

（4）工業(yè)生產的純堿常會含少量NaCl雜質�，F(xiàn)用重量法測定其純度，步驟如下：①稱取樣品ag，加水溶解；②加入足量的BaCl2溶液；③過濾、___、烘干、冷卻、稱量、烘干、冷卻、___，最終得到固體bg。樣品中純堿的質量分數(shù)為____(用含a、b的代數(shù)式)

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【題目】

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已知以下信息：

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回答下列問題：

（1）A的結構簡式為____________。

（2）B的化學名稱為____________。

（3）C與D反應生成E的化學方程式為____________。

（4）由E生成F的反應類型為____________。

（5）G是分子式為____________。

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C. W與Y形成的化合物中一定含有離子鍵

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