Question

【題目】硅在地殼中的含量較高，硅及其化合物的開(kāi)發(fā)由來(lái)已久，在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用．回答下列問(wèn)題：

（1）陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無(wú)機(jī)非金屬材料，其中生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有____________________。

（2）高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料．工業(yè)上提純硅有多種路線(xiàn)，其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如圖：

ⅰ鋅還原四氯化硅是一種有著良好應(yīng)用前景的制備硅的方法，該制備過(guò)程示意如下：

① 過(guò)程Ⅰ發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為______________________(SiO2+3CSiC+2CO↑為副反應(yīng)）若產(chǎn)品中單質(zhì)硅與碳化硅的物質(zhì)的量之比為1：1，則參加反應(yīng)的C和SiO2的質(zhì)量之比為________________。

②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水。SiCl4遇水劇烈水解生成兩種酸，反應(yīng)的化學(xué)方程式是_________________________。

ⅱ 工業(yè)上也可以通過(guò)如下圖所示的流程制取純硅：

①有關(guān)物質(zhì)的沸點(diǎn)數(shù)據(jù)如下表，提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和_________；SiHCl3極易水解，其完全水解的化學(xué)方程式為___________________________。

物質(zhì)	Si	SiCl4	SiHCl3	SiH2Cl2	SiH3Cl	HCl	SiH4
沸點(diǎn)/℃	2355	57.6	31.8	8.2	﹣30.4	﹣84.9	﹣111.9

② 假設(shè)每一輪次制備1mol純硅，且生產(chǎn)過(guò)程中硅元素沒(méi)有損失，反應(yīng)I中HCl的利用率為90%，反應(yīng)II中H2的利用率為93.75%，則在第二輪次的生產(chǎn)中，補(bǔ)充投入HCl 和H2的物質(zhì)的量之比是___________________。

Answer 1

【答案】 純堿、石英、石灰石 SiO2+2CSi+2CO↑ 1:2 SiCl4+ 3H2O = H2SiO3↓+ 4HCl 蒸餾 SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+H2↑+3HCl↑ 5:1

【解析】(1)工業(yè)上生產(chǎn)普通玻璃的主要原料是純堿、石英、石灰石，故答案為：純堿、石英、石灰石；

(2)i. ① 過(guò)程Ⅰ中二氧化硅與C在高溫下反應(yīng)生成硅和一氧化碳，反應(yīng)的化學(xué)方程式為SiO2+2C Si+2CO↑，反應(yīng)中的副反應(yīng)為SiO2+3CSiC+2CO↑，若產(chǎn)品中單質(zhì)硅與碳化硅的物質(zhì)的量之比為1：1，根據(jù)方程式，生成1mol硅和碳化硅，參加反應(yīng)的C和SiO2的物質(zhì)的量分別為5mol和2mol，質(zhì)量之比為5mol×12g/mol：2mol×60g/mol=1:2，故答案為：SiO2+2C Si+2CO↑；1:2；

②SiCl4遇水劇烈水解生成兩種酸，反應(yīng)的化學(xué)方程式為SiCl4 + 3H2O = H2SiO3↓ + 4HCl，故答案為：SiCl4 + 3H2O = H2SiO3↓ + 4HCl；

ⅱ. ①利用沸點(diǎn)的不同提純SiHCl3屬于蒸餾，SiHCl3(沸點(diǎn)31.8℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.9℃)，由于沸點(diǎn)差別較大，可以通過(guò)精餾(或蒸餾)除去雜質(zhì)；SiHCl3水解反應(yīng)生成硅酸、氫氣和氯化氫，反應(yīng)的方程式為：SiHCl3+3H2O═H2SiO3+ H2↑+ 3HCl↑；故答案為：蒸餾；SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+H2↑+3HCl↑；

② 根據(jù)①中方程式SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+H2↑+3HCl↑可知，反應(yīng)生產(chǎn)1mol純硅需補(bǔ)充HCl： -3，需補(bǔ)充H2： -1，補(bǔ)充HCl與H2的物質(zhì)的量之比為(-3)：(-1)≈5：1，故答案為：5：1。