Question

下列反應(yīng)的離子方程式正確的是（　�。�

• A、用FeCl₃溶液腐蝕印刷電路板：Fe³⁺+Cu═Fe²⁺+Cu²⁺
• B、氧化鋁溶于氫氧化鈉：Al₂O₃+2OH^-═2AlO₂^-+H₂↑
• C、硅酸鈉溶液中滴加稀鹽酸：SiO₃^2-+2H⁺═H₂SiO₃↓
• D、將氨水滴入到FeCl₃溶液中：Fe³⁺+3OH^-═Fe（OH）₃↓

Answer 1

考點(diǎn)：離子方程式的書(shū)寫(xiě)

專題：離子反應(yīng)專題

分析：A．電荷不守恒；
B．不符合反應(yīng)的客觀事實(shí)；
C．硅酸為不溶性沉淀；
D．一水合氨為弱電解質(zhì)，保留化學(xué)式．

解答： 解：A．用FeCl₃溶液腐蝕印刷電路板，離子方程式：2Fe³⁺+Cu═2Fe²⁺+Cu²⁺，故A錯(cuò)誤；
B．氧化鋁溶于氫氧化鈉，離子方程式：Al₂O₃+2OH^-=2AlO₂^-+H₂O，故B錯(cuò)誤；
C．硅酸鈉溶液中滴加稀鹽酸：SiO₃^2-+2H⁺═H₂SiO₃↓，故C正確；
D．將氨水滴入到FeCl₃溶液中，離子方程式為：Fe³⁺+3NH₃?H₂O═Fe（OH）₃↓+3NH₄⁺，故D錯(cuò)誤；
故選：C．

點(diǎn)評(píng)：本題考查了離子方程式書(shū)寫(xiě)正誤的判斷，解題時(shí)注意化學(xué)式的拆分、電荷的守恒，題目難度不大．