Question

近年來，我國的電子工業(yè)迅速發(fā)展，造成了大量的電路板蝕刻廢液的產(chǎn)生和排放．蝕刻液主要有酸性的（HCl-H₂O₂）、堿性的（NH₃-NH₄Cl）以及傳統(tǒng)的（HCl-FeCl₃）等3種．蝕刻廢液中含有大量的Cu²⁺，廢液的回收利用可減少銅資源的流失．幾種蝕刻廢液的常用處理方法如下：




（1）FeCl₃型酸性廢液用還原法處理是利用Fe和Cl₂分別作為還原劑和氧化劑，可回收銅并使蝕刻液再生．發(fā)生的主要化學(xué)反應(yīng)有：Fe+Cu²⁺=Fe²⁺+Cu、Fe+2H⁺=Fe²⁺+H₂↑，還有______、______．（用離子方程式表示）．
（2）HCl-H₂O₂型蝕刻液蝕刻過程中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)用化學(xué)方程式可表示為：______．
（3）H₂O₂型酸性廢液處理回收微米級Cu₂O過程中，加入的試劑A的最佳選擇是下列中的______（填序號）
①酸性KMnO₄溶液        ②NaCl（固）          ③葡萄糖          ④甲醛
（4）處理H₂O₂型酸性廢液回收Cu₂（OH）₂CO₃的過程中需控制反應(yīng)的溫度，當(dāng)溫度高于80℃時，產(chǎn)品顏色發(fā)暗，其原因可能是______．
（5）堿性蝕刻液發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)是：2Cu+4NH₄Cl+4NH₃?H₂O+O₂=2Cu（NH₃）₄Cl₂+6H₂O，處理堿性蝕刻廢液過程中加入NH₄Cl固體并通入NH₃的目的是______．

Answer 1

（1）FeCl₃型酸性廢液中含有Fe³⁺和Fe²⁺，F(xiàn)e³⁺具有氧化性，可與Fe反應(yīng)，離子方程式為Fe+2Fe³⁺=3Fe²⁺，F(xiàn)e²⁺具有還原性，可與Cl₂反應(yīng)，離子方程式為2Fe²⁺+Cl₂=2Fe³⁺+2Cl^-，
故答案為：Fe+2Fe³⁺=3Fe²⁺；2Fe²⁺+Cl₂=2Fe³⁺+2Cl^-；
（2）H₂O₂在酸性條件下具有強氧化性，可氧化Cu生成CuCl₂，反應(yīng)的化學(xué)方程式為Cu+2HCl+H₂O₂=CuCl₂+2H₂O，
故答案為：Cu+2HCl+H₂O₂=CuCl₂+2H₂O；
（3）HCl-H₂O₂型蝕刻液含有Cu²⁺，在堿性條件下生成Cu（OH）₂，可與弱還原劑生成Cu₂O，選項中葡萄糖和甲醛都可，但葡萄糖資源廣，無害，最合適，故答案為：③；
（4）當(dāng)溫度高于80℃時，Cu₂（OH）₂CO₃易分解生成黑色CuO，導(dǎo)致產(chǎn)品顏色發(fā)暗，
故答案為：溫度高會使產(chǎn)物部分分解產(chǎn)生黑色的氧化銅導(dǎo)致產(chǎn)品顏色發(fā)暗；
（5）Cu²⁺易與NH₃發(fā)生反應(yīng)生成配合物Cu（NH₃）₄Cl₂，促使溶液中Cu（NH₃）₄Cl₂結(jié)晶析出，故答案為：促使溶液中Cu（NH₃）₄Cl₂結(jié)晶析出．