Question

光刻膠是一種應用廣泛的光敏材料，其合成路線如下（部分試劑和產物略去）：

已知：

Ⅰ．（R，R’為烴基或氫）

Ⅱ． （R，R’為烴基）

（1）A分子中含氧官能團名稱為          。

（2）羧酸X的電離方程式為          。

（3）C物質可發(fā)生的反應類型為          （填字母序號）。

a．加聚反應    b． 酯化反應   c．  還原反應    d．縮聚反應

（4）B與Ag(NH₃)₂OH反應的化學方程式為          。

（5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氫譜為三組峰，且峰面積比為3:2:1，E能發(fā)生水解反應，則E的結構簡式為          。

（6）與C具有相同官能團且含有苯環(huán)的同分異構體有4種，其結構簡式分別為

、、         和         。

（7）D和G反應生成光刻膠的化學方程式為          。

 

Answer 1

【答案】

（1）醛基

（2）CH₃COOHCH₃COO^-+H⁺

（3）a  b   c（選對兩個給1分，錯選或多選為0分）

（4）

（5）CH₃COOCH=CH₂

（6）、

（7）

一定條件

（此方程式不寫條件不扣分）

【解析】

試題分析：根據(jù)D，可以反推出A為，B為，C為，羧酸X為CH₃COOH，E為，F(xiàn)為；

（1）分子中含氧官能團名稱為醛基

（2）羧酸CH₃COOH的電離方程式為CH₃COOHCH₃COO^-+H⁺

（3）含有碳碳雙鍵，羧基，苯環(huán)，可發(fā)生的反應類型為加聚反應，酯化反應，還原反應，不能發(fā)生縮聚反應。

（4）與Ag(NH₃)₂OH反應的化學方程式為

+

（5）E的結構簡式為CH₃COOCH=CH₂。

（6）與具有相同官能團且含有苯環(huán)的同分異構體有4種，其結構簡式分別為、、、。

（7）D和G反應生成光刻膠的化學方程式為

一定條件

。

考點：本題考查有機合成。