現(xiàn)有用離子交換膜和石墨作電極的電解槽，電解飽和Na₂SO₄溶液生產(chǎn)NaOH和H₂SO₄，下列說(shuō)法中正確的是

A．氣體A是H2 ，溶液E是稀硫酸

B．氣體B是H2 ，溶液D是NaOH溶液

C．Na2SO4溶液由G處加入，F(xiàn)處加入稀硫酸[

D．靠陽(yáng)極室一側(cè)的是陽(yáng)離子交換膜，陰極室導(dǎo)出的是氧氣

用NaOH溶液吸收二氧化硫，將所得的混合液進(jìn)行電解循環(huán)再生，這種新工藝叫再生循環(huán)脫硫法。其中陰陽(yáng)膜組合循環(huán)再生機(jī)理如下圖，則下列說(shuō)法不正確的是

A．陰極區(qū)電極反應(yīng)式為：2H＋＋2e－=H2↑

B．該過(guò)程中的副產(chǎn)品主要為H2SO4溶液

C．陽(yáng)極室內(nèi)HSO3－．SO32－被氧化為SO42-

D．10L 2mol/L NaOH溶液最多吸收標(biāo)準(zhǔn)狀況下224L SO2

工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅。
(1) 右圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽(yáng)極產(chǎn)生的氣體是    ；NaOH溶液的出口為_(kāi)_____(填字母）；精制飽和食鹽水的進(jìn)口為_(kāi)____(填字母）；干燥塔中使用的液體干燥劑是____（每空2分）。

(2) 原料粗鹽中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等雜質(zhì)，必須精制后才能供電解使用。精制時(shí)，粗鹽溶于水過(guò)濾后，還要加人的試劑分別為①Na₂CO₃、②HCl(鹽酸）、③BaCl₂,這3種試劑添加的合理順序是    （2分)(填序號(hào))。
(3) 多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關(guān)注SiCl₄可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為                         (2分)。也可轉(zhuǎn)化為而循環(huán)使用。一定條件下，在20⁰C恒容密閉容器中發(fā)生反應(yīng)_:，達(dá)平衡后，H2與SiHCL₃物質(zhì)的量濃度分別為0. 140mol/L和0. 020mol/L，若H₂全部來(lái)源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗純NaCl的物質(zhì)的量為_(kāi)______ (2分)mol。
(4)已知1 g陰極產(chǎn)生的氣體在陽(yáng)極產(chǎn)生的氣體中完全燃燒時(shí)放出92. 3 kj的熱量，則該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為:                                    (2分)。

某同學(xué)按如圖所示的裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，A、B為常見(jiàn)金屬，它們的硫酸鹽可溶于水。當(dāng)K閉合后，在交換膜處SO₄^2－從右向左移動(dòng)。下列分析不正確的是

A、溶液中c(A^2＋)增大
B、B的電極反應(yīng)：B^2＋＋2e^－＝B
C、電極上有Cl₂產(chǎn)生，發(fā)生氧化反應(yīng)
D、右邊裝置反應(yīng)的離子方程式為：2Cl^－＋2H₂OH₂↑+Cl₂↑+2OH^－

（22分）
(Ⅰ)北京奧運(yùn)會(huì)“祥云”火炬燃料是丙烷（C₃H₈），亞特蘭大奧運(yùn)會(huì)火炬燃料是丙烯（C₃H₆）.
⑴丙烷脫氫可得丙烯。
已知：C₃H₈(g)CH₄(g)＋HCCH(g)＋H₂(g) kJ/mol
CH₃CHCH₂(g)CH₄(g)＋HCCH(g) kJ/mol
則相同條件下，反應(yīng)C₃H₈(g)CH₃CHCH₂(g)＋H₂(g)的    kJ/mol。
⑵以丙烷為燃料制作新型燃料電池，電池的一極通入O₂和CO₂，另一極通入丙烷，電解質(zhì)是熔融碳酸鹽。通丙烷的一極是電池的     極，電池負(fù)極的電極反應(yīng)式為                              ；放電時(shí)，CO₃^2－移向電池的         （填“正”或“負(fù)”）極。
(Ⅱ)如下圖裝置所示，C、D、E、F都是惰性電極，甲、乙中溶液的體積和物質(zhì)的量濃度都相同（假設(shè)通電前后溶液體積不變），A、B為外接直流電源的兩極。將直流電源接通后，F(xiàn)極附近呈紅色。

⑴A極是電源的      極。
⑵若甲、乙裝置中的C、D、E、F電極均只有一種單質(zhì)生成時(shí)，對(duì)應(yīng)單質(zhì)的物質(zhì)的量之比為         。
⑶現(xiàn)用丙裝置給銅件鍍銀，則H應(yīng)該是          （填“鍍層金屬”或“鍍件”），電鍍液是     溶液。
當(dāng)乙中溶液的c(OH^－)=0.1mol/L（此時(shí)乙溶液體積為500mL），丙中鍍件上析出銀的質(zhì)量為      ，甲中溶液的c(H⁺)      （填“變大”、“變小”或“不變”）。
⑷上圖甲裝置電解CuSO₄溶液一段時(shí)間后，向所得溶液中加入0.2mol Cu(OH)₂后，
恰好使溶液恢復(fù)到電解前的濃度。則乙裝置中，若不考慮Cl₂的溶解及與堿的反應(yīng)，此裝置共產(chǎn)生氣體       L（標(biāo)準(zhǔn)狀況）。

（1）如下圖所示，A為電源，B為浸透飽和食鹽水和酚酞試液的濾紙，濾紙中央滴有一滴KMnO₄溶液，C.D為電解槽，其電極材料見(jiàn)圖，電解質(zhì)溶液：C裝置中溶液為AgNO₃溶液，D裝置的溶液為Cu(NO₃)₂溶液，。關(guān)閉K₁，打開(kāi)K₂，通電后，B的KMnO₄紫紅色液滴向d端移動(dòng)，則電源a端為       極，通電一段時(shí)間后，觀察到濾紙c端出現(xiàn)的現(xiàn)象是：                          ；

（2）打開(kāi)K₁，關(guān)閉K₂，通電一段時(shí)間后，D裝置中Cu極的電極反應(yīng)式為              。C裝置中右端Pt電極上的電極反應(yīng)式為：                           。C裝置中總反應(yīng)方程式為：                       。
（3）假定C.D裝置中電解質(zhì)溶液足量，電解一段時(shí)間后，C裝置中溶液的pH值
       （填“變大”.“變小”或“不變”，下同），D裝置中溶液的pH值      。

某溫度時(shí)，用惰性電極電解硝酸鈉的不飽和溶液。若兩極板收集到氣體總體積為22.4aL時(shí)，剩余溶液恢復(fù)至原溫度，析出溶質(zhì)mg；若兩極收集到氣體總體積為33.6aL時(shí)，剩余溶液恢復(fù)至原溫度，析出溶質(zhì)ng。則硝酸鈉在該溫度時(shí)的溶解度是（氣體體積均已折合為標(biāo)準(zhǔn)狀況下的體積

A．	B．
C．	D．

在盛有水的電解槽中加入等物質(zhì)的量的AgNO₃、Ba(NO₃)₂、Na₂SO₄、MgCl₂，搖勻后用惰性電極電解，最初得到的氧化產(chǎn)物與還原產(chǎn)物的質(zhì)量比為（   ）

A．71：2

B．71：216

C．8：1

D．16：137

用惰性電極電解100mLCuSO₄稀溶液，一段時(shí)間內(nèi)，陰極無(wú)氣體生成時(shí)，在陽(yáng)極收集到氣體56mL（標(biāo)準(zhǔn)狀況），若不考慮Cu^2＋的水解和溶液體積的變化，則此時(shí)電解液的pH為

A．1

B．0

C．2

D．13

將a、b、c、d四個(gè)鉑電極，插入甲、乙兩電解池中進(jìn)行電解，如圖所示。工作一段時(shí)間后，甲池中的電解液的pH升高，乙池中的電解液的pH下降，同時(shí)b、c兩極放電的離子數(shù)目比為2：1，可供選擇的電解液有下列四組，則符合題意的為哪一組？

	A	B	C	D
甲	AgNO3	NaCl	K2S	KOH
乙	CuCl2	CuSO4	H2SO4	AgNO3