(2008?河西區(qū)模擬)1961年德國學者約恩孫發(fā)表了一篇論文,介紹了他用電子束的一系列衍射和干涉實驗.其中他做的雙縫干涉實驗與托馬斯?楊用可見光做的雙縫干涉實驗所得的圖樣基本相同,這是對德布羅意的質(zhì)波理論的又一次實驗驗證.根據(jù)德布羅意理論,電子也具有波粒二象性,其德布羅意波長λ=h/ρ,其中h為普朗克常量,p為電子的動量.約恩孫實驗時用50kV電壓加速電子束,然后垂直射到間距為毫米級的雙縫上,在與雙縫距離為35cm的屏上得到了干涉條紋,但條紋間距很小,下面所說的方法中,哪些方法一定能使條紋間距變大( 。
分析:根據(jù)雙縫干涉條紋的間距公式△x=
L
d
λ
判斷如何增大干涉條紋的間距.
解答:解:光的干涉現(xiàn)象中,條紋間距公式△x=
L
d
λ
,即干涉條紋間距與入射光的波長成正比,與雙縫到屏的距離成正比,與雙縫間距離成反比.
由題意知,降低加速電壓,電子的動量減小,其波長增大.
故選B.
點評:解決本題的關鍵掌握雙縫干涉條紋的間距公式△x=
L
d
λ
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1:2
1:2
;
(2)從b孔和c孔射出的電子在盒內(nèi)運動時間之比 為
2:1
2:1

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