（03年上海卷）（4分）有質(zhì)量的物體周圍存在著引力場(chǎng)。萬有引力和庫侖力有類似的規(guī)律，因此我們可以用定義靜電場(chǎng)強(qiáng)度的方法來定義引力場(chǎng)的場(chǎng)強(qiáng)。由此可得，與質(zhì)量為M的質(zhì)點(diǎn)相距r處的引力場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)的表達(dá)式為E_G=____________（萬有引力恒量用G表示）。

（03年上海卷）（4分）細(xì)繩的一端在外力作用下從t=0時(shí)刻開始做簡(jiǎn)諧運(yùn)動(dòng)，激發(fā)出一列簡(jiǎn)諧橫波。在細(xì)繩上選取15個(gè)點(diǎn)，圖1為t=0時(shí)刻各點(diǎn)所處的位置，圖2為t=T/4時(shí)刻的波形圖（T為波的周期）。在圖3中畫出t=3T/4時(shí)刻的波形圖。

（03年上海卷）（4分）盧瑟福通過___________實(shí)驗(yàn)，發(fā)現(xiàn)了原子中間有一個(gè)很小的核，并由此提出了原子的核式結(jié)構(gòu)模型。平面示意圖中的四條線表示α粒子運(yùn)動(dòng)的可能軌跡，在圖中完成中間兩條α粒子的運(yùn)動(dòng)軌跡。 

（03年上海卷）劈尖干涉是一種薄膜干涉，其裝置如圖1所示。將一塊平板　玻璃放置在另一平板玻璃之上，在一端夾入兩張紙片，從而在兩玻璃表面之間形成一個(gè)劈形空氣薄膜。當(dāng)光垂直入射后，從上往下看到的干涉條紋如圖2所示。干涉條紋有如下特點(diǎn)：⑴任意一條明條紋或暗條紋所在位置下面的薄膜厚度相等；⑵任意相鄰明條紋或暗條紋所對(duì)應(yīng)的薄膜厚度差恒定。現(xiàn)若在圖1裝置中抽去一張紙片，則當(dāng)光垂直入射到新的劈形空氣薄膜后，從上往下觀察到的干涉條紋  （   ）

 A.變疏        　B.變密      　  C.不變      　D.消失

（03年上海卷）質(zhì)量不計(jì)的直角形支架兩端分別連接質(zhì)量為m和2m的小球A和B。支架的兩直角邊長(zhǎng)度分別為2l和l，支架可繞固定軸O在豎直平面內(nèi)無摩擦轉(zhuǎn)動(dòng)，如圖所示。開始時(shí)OA邊處于水平位置，由靜止釋放，則   （   ）

A.A球的最大速度為2

B.A球的速度最大時(shí)，兩小球的總重力勢(shì)能最小

C.A球的速度最大時(shí)，兩直角邊與豎直方向的夾角為45°

D.A、B兩球的最大速度之比v₁∶v₂=2∶1

（03年上海卷）粗細(xì)均勻的電阻絲圍成的正方形線框置于有界勻強(qiáng)磁場(chǎng)中，磁場(chǎng)方向垂直于線框平面，其邊界與正方形線框的邊平行。現(xiàn)使線框以同樣大小的速度沿四個(gè)不同方向平移出磁場(chǎng)，如圖所示，則在移出過程中線框一邊a、b兩點(diǎn)間的電勢(shì)差絕對(duì)值最大的是  （    ）

（03年上海卷）愛因斯坦由光電效應(yīng)的實(shí)驗(yàn)規(guī)律，猜測(cè)光具有粒子性，從而提出光子說。從科學(xué)研究的方法來說，這屬于（     ）

A.等效替代         B.控制變量        C.科學(xué)假說          D.數(shù)學(xué)歸納

（08年全國卷Ⅰ）矩形導(dǎo)線框abcd固定在勻強(qiáng)磁場(chǎng)中，磁感線的方向與導(dǎo)線框所在的平面垂直，規(guī)定磁場(chǎng)的正方向垂直紙面向里，磁感應(yīng)強(qiáng)度B隨時(shí)間變化的規(guī)律如圖所示。若規(guī)定順時(shí)針方向?yàn)楦袘?yīng)電流I的正方向，下列各圖中正確的是

（03年上海卷）關(guān)于機(jī)械波，下列說法正確的是  �。�     ）

 A.在傳播過程中能傳遞能量        B.頻率由波源決定

 C.能產(chǎn)生干涉、衍射現(xiàn)象           D.能在真空中傳播

(03年上海卷)在核反應(yīng)方程的括弧中，X所代表的粒子是 （   ）

 A.        B.        C.        D.