下列化學事實與分子間形成氫鍵無關的是 A．氫鍵的存在使鹵化氫中HF的沸點“反常 B．H2O分子的化學性質(zhì)非常穩(wěn)定.不易分解 C．氨氣易液化.且極易溶于水 D．冰晶體的結(jié)構疏松.密度比液態(tài)水小【查看更多】

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。

回答下列問題

（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學方程式加以解釋；

（2）寫出晶片制絨反應的離子方程式，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH^一反應，生成SiO₄⁴^一，然后SiO₄⁴^一迅速水解生成H₄SiO₄�；诖嗽矸治龇磻醒趸瘎� 。

（3）本�；瘜W興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：

	實驗事實
事實一	水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。
事實二	盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。
事實三	普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。
事實四	在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)₂和NaOH，點著后燜燒，可劇烈放出H₂。
事實五	1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預熱），收集到約1700mL H₂，很接近理論值（1600mL）。

結(jié)論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H₂O可作劑；NaOH作劑，降低反應。高溫無水環(huán)境下，NaOH作劑。

（4）在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH₄）與氨氣（NH₃）在等離子體中反應。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應。下列關于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是。

A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH₄能與水發(fā)生氧化還原反應生成H₂；

B．硅烷與氨氣反應的化學方程式為：3SiH₄+4NH₃＝Si₃N₄+12H₂↑，反應中NH₃作氧化劑；

C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應；

D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si₃N₄是優(yōu)良的新型無機非金屬材料。

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清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。
回答下列問題
（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學方程式加以解釋；
（2）寫出晶片制絨反應的離子方程式，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH^一反應，生成SiO₄⁴^一，然后SiO₄⁴^一迅速水解生成H₄SiO₄。基于此原理分析反應中氧化劑為。
（3）本�；瘜W興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：

	實驗事實
事實一	水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。
事實二	盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。
事實三	普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。
事實四	在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)₂和NaOH，點著后燜燒，可劇烈放出H₂。
事實五	1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預熱），收集到約1700mL H₂，很接近理論值（1600mL）。

結(jié)論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H₂O可作劑；NaOH作劑，降低反應。高溫無水環(huán)境下，NaOH作劑。
（4）在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH₄）與氨氣（NH₃）在等離子體中反應。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應。下列關于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是。
A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH₄能與水發(fā)生氧化還原反應生成H₂；
B．硅烷與氨氣反應的化學方程式為：3SiH₄+4NH₃＝Si₃N₄+12H₂↑，反應中NH₃作氧化劑；
C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應；
D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si₃N₄是優(yōu)良的新型無機非金屬材料。

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清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。
回答下列問題
（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學方程式加以解釋；
（2）寫出晶片制絨反應的離子方程式，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH^一反應，生成SiO₄⁴^一，然后SiO₄⁴^一迅速水解生成H₄SiO₄。基于此原理分析反應中氧化劑為。
（3）本校化學興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：

	實驗事實
事實一	水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。
事實二	盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。
事實三	普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。
事實四	在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)₂和NaOH，點著后燜燒，可劇烈放出H₂。
事實五	1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預熱），收集到約1700mL H₂，很接近理論值（1600mL）。

結(jié)論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H₂O可作劑；NaOH作劑，降低反應。高溫無水環(huán)境下，NaOH作劑。
（4）在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH₄）與氨氣（NH₃）在等離子體中反應。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應。下列關于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是。
A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH₄能與水發(fā)生氧化還原反應生成H₂；
B．硅烷與氨氣反應的化學方程式為：3SiH₄+4NH₃＝Si₃N₄+12H₂↑，反應中NH₃作氧化劑；
C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應；
D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si₃N₄是優(yōu)良的新型無機非金屬材料。

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新華網(wǎng)2月22日電截至22日15時，山西屯蘭煤礦事故已造成73人遇難。據(jù)事故搶險指揮部介紹，現(xiàn)已初步查明，事故原因為井下局部瓦斯爆炸。該礦發(fā)生事故時井下共有礦工436人，有375人陸續(xù)升井。升井后經(jīng)搶救無效死亡的和井下已發(fā)現(xiàn)遇難遺體的礦工共計73人。現(xiàn)有113人住院觀察，其中21人傷勢較重。目前，山西仍在全力搜救被困者，第一輪搜救已于14時結(jié)束，目前第二輪搜救排查已經(jīng)展開，同時山西省還采取措施防止次生災害發(fā)生。煤礦發(fā)生爆炸事故的元兇是煤礦坑道氣中含有的甲烷。
⑴下列關于甲烷的敘述中錯誤的是_____________。
A.甲烷分子是一種呈正四面體型的．含極性鍵的非極性分子
B.甲烷分子中兩個氫原子被氯取代后，可形成兩種不同結(jié)構的分子
C.甲烷是重要的化工原料，其分解產(chǎn)物可用于合成氨和橡膠工業(yè)
D.“抽”出坑道中的甲烷，既可用作清潔燃料，又可防止爆炸
⑵已知某正四面體形分子E和直線形分子G在光照條件下反應，生成一種直線形分子M和變形的四面體L(組成E、G、L、M分子的元素原子序數(shù)均小于18)，且G分子中的原子處于E分子最大原子的下一周期。反應過程圖示如下：

利用E與G發(fā)生取代反應制取副產(chǎn)品M溶液的設想在工業(yè)上已成為現(xiàn)實。某化學興趣小組通過在實驗室中模擬上述過程，其設計的模擬裝置如下：

根據(jù)要求填空： ①B裝置有三種功能：①控制氣流速度；②均勻混合氣體；③______________。
②設V(G)/V(E)=x，若理論上欲獲得最多的M，則x值應___________________。
③D裝置的石棉中均勻混有KI粉末，其作用是___________________________。
④E裝置的作用是_________（填編號）
A.收集氣體
B.吸收G物質(zhì)
C.防止倒吸
D.吸收M物質(zhì)
⑤在C裝置中，經(jīng)過一段時間的強光照射，發(fā)現(xiàn)硬質(zhì)玻璃管內(nèi)壁有黑色小顆粒產(chǎn)生，寫出置換出黑色小顆粒的化學方程式_____________________________。
⑥E裝置出生成鹽酸外，還含有有機物，從E中分離出M的最佳方法為。該裝置還有缺陷，原因是沒有進行尾氣處理，其尾氣主要成分為___________________________。

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硅是重要的半導體材料，構成了現(xiàn)代電子工業(yè)的基礎．請回答下列問題：
（1）基態(tài)Si原子中，電子占據(jù)的最高能層符號為，該能層具有的原子軌道數(shù)為、電子數(shù)為．
（2）硅主要以硅酸鹽、等化合物的形式存在于地殼中．
（3）單質(zhì)硅存在與金剛石結(jié)構類似的晶體，其中原子與原子之間以相結(jié)合，其晶胞中共有8個原子，其中在面心位置貢獻個原子．
（4）單質(zhì)硅可通過甲硅烷（SiH₄）分解反應來制備．工業(yè)上采用Mg₂Si和NH₄Cl在液氨介質(zhì)中反應制得SiH₄，該反應的化學方程式為．
（5）碳和硅的有關化學鍵鍵能如下所示，簡要分析和解釋下列有關事實：
化學鍵 C-C C-H C-O Si-Si Si-H Si-O
鍵能/（kJ?mol^-1） 356 413 336 226 318 452
①硅與碳同族，也有系列氫化物，但硅烷在種類和數(shù)量上都遠不如烷烴多，原因是．
②SiH₄的穩(wěn)定性小于CH₄，更易生成氧化物，原因是．
（6）在硅酸鹽中，SiO $數(shù)學公式$ 四面體（如下圖（a））通過共用頂角氧離子可形成島狀、鏈狀、層狀、骨架網(wǎng)狀四大類結(jié)構型式．圖（b）為一種無限長單鏈結(jié)構的多硅酸根，其中Si原子的雜化形式為，Si與O的原子數(shù)之比為，化學式為．

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練習冊

高中

初中

小學

化學鍵	C-C	C-H	C-O	Si-Si	Si-H	Si-O
鍵能/（kJ?mol^-1）	356	413	336	226	318	452