15．光刻膠是大規(guī)模集成電路.印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料.某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變?yōu)锽. ? ? A B (1)請寫出A中含有的官能團 . (2)A經光照固化轉變?yōu)锽.發(fā)生了 反應. (3)寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式 . (4)寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式 . 解析:(1)由A的結構簡式可以看出.它的分子中會有酯基.碳碳雙鍵和苯取代基.答案可任選兩種, (2)由A到B的轉化關系不難看出是由A分子中的雙鍵通過加聚而生成B, (3)因含有酯基 因此A與NaOH反應實際是酯在堿性條件下的水解生成相應鹽 , (4)B在酸性條件下也是發(fā)生了酯的水解反應將 變?yōu)? .從而得答 案. 答案:(1)酯基.碳碳雙鍵.苯基加成 【查看更多】

 

題目列表(包括答案和解析)

光刻膠是大規(guī)模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料．某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變?yōu)锽．

（1）請指出A中含有的官能團名稱
酯基、碳碳雙鍵
酯基、碳碳雙鍵
（填兩種）．
（2）A經光照固化轉變?yōu)锽，發(fā)生了
加成
加成
反應（填反應類型）．
（3）寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式
．
（4）寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式
C18H16O4
C18H16O4
．

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光刻膠是大規(guī)模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料。某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變?yōu)锽。

(1)請指出A中含有的官能團_________(填兩種)。

(2)A經光照固化轉變?yōu)锽，發(fā)生了_________反應(填反應類型)。

(3)寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式________________________。

(4)寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式____________。

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光刻膠是大規(guī)模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料。某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變?yōu)锽。

(1)請指出A中含有的官能團(填兩種)。

(2)A經光照固化轉變?yōu)锽，發(fā)生了_______________反應(填反應類型)。

(3)寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式____________________________________。

(4)寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________________。

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22.光刻膠是大規(guī)模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料。某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變?yōu)锽。

⑴請寫出A中含有的官能團_______________（填兩種）。

⑵A經光照固化轉變?yōu)锽，發(fā)生了___________反應（填反應類型）。

⑶寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式______________________________。

⑷寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________。

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光刻膠是大規(guī)模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料。某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變?yōu)锽。

(1)請寫出A中含有的官能團_____________（填兩種）。

（2）A經光照固化轉變?yōu)锽，發(fā)生了__________反應（填反應類型）。

（3）寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式________________________________________。

（4）寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式___________________________。

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