3.半圓柱體P放在粗糙的水平面上.其右端豎直放置一擋板MN.在P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q.整個(gè)裝置處于靜止.現(xiàn)用外力使MN保持豎直且緩慢地向右移動(dòng).在Q落到地面以前.發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止.在此過(guò)程中.下列說(shuō)法中正確的是( ) A.MN對(duì)Q的彈力逐漸減小 B.地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大C.P.Q間的彈力先減小后增大D.Q所受的合力逐漸增大 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

半圓柱體P放在粗糙的水平面上,其右端有固定放置的豎直擋板MN.在半圓柱體P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q,整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài).如圖所示是整個(gè)裝置的縱截面圖.若用外力使MN保持豎直且緩慢的向右移動(dòng),在Q落到地面以前發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止,則MN對(duì)Q的彈力逐漸
增大
增大
,地面對(duì)P的摩擦力逐漸
增大
增大
.(選填“增大”“減小”或“不變”)

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半圓柱體P放在粗糙的水平面上,其右端有固定放置的豎直擋板MN.在半圓柱體P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q,整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài).如圖所示是整個(gè)裝置的縱截面圖.若用外力使MN保持豎直且緩慢的向右移動(dòng),在Q落到地面以前發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止,則MN對(duì)Q的彈力逐漸______,地面對(duì)P的摩擦力逐漸______.(選填“增大”“減小”或“不變”)
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半圓柱體P放在粗糙的水平面上,其右端有豎直擋板MN。在P和MN之間放一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q。整個(gè)裝置處于靜止。右圖是這個(gè)裝置的縱截面圖,若用外力使MN保持豎直且緩慢地向右移動(dòng),在Q落到地面前,P始終保持靜止。此過(guò)程,下列說(shuō)法中正確的是

A.MN對(duì)Q的彈力逐漸減小                          B.地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大

C.P、Q間的彈力先減小后增大                    D.Q所受的合力逐漸增大

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半圓柱體P放在粗糙的水平面上,其右端有固定放置的豎直擋板MN.在半圓柱體P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q,整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài).如圖所示是整個(gè)裝置的縱截面圖.若用外力使MN保持豎直且緩慢的向右移動(dòng),在Q落到地面以前發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止,則MN對(duì)Q的彈力逐漸    ,地面對(duì)P的摩擦力逐漸    .(選填“增大”“減小”或“不變”)

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半圓柱體P放在粗糙的水平面上,其右端有固定放置的豎直擋板MN.在半圓柱體P和MN之間放有一個(gè)光滑均勻的小圓柱體Q,整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài).如圖所示是整個(gè)裝置的縱截面圖.若用外力使MN保持豎直且緩慢的向右移動(dòng),在Q落到地面以前發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止,則MN對(duì)Q的彈力逐漸________,地面對(duì)P的摩擦力逐漸________.(選填“增大”“減小”或“不變”)

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1.A  2.D  3.B  4.B  5.D  6.C  7.BD  8.AD  9.ABD  10.ABC  11.AD 12.3.125;  13.(1)1.73;(2)1.04;14.(1)C;(2)10V,45Ω;15.(1)75m;(2)12s;16.(1)0.25V,a點(diǎn)高;(2)0.95J;3.93C 17.(1);(2);(3),方向與x軸正向夾角為;18.(1)3mg;(2);(3)


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