Question

電子工業(yè)中用過量的FeCl3溶液溶解電路板中的銅箔時(shí)，會(huì)產(chǎn)生大量廢液。由該廢液回收銅并得到凈水劑（FeCl36H2O）的步驟如下：

(2)I中加入過量Fe粉 ，然后過濾，濾渣中有Cu、Fe，為了得到純凈銅，不產(chǎn)生新的雜質(zhì)，試劑A應(yīng)是HCl。.在廢液中加入過量鐵粉，過濾；

II.向I的濾渣中加入過量試劑A，充分反應(yīng)后，過濾，得到銅；

III.合并I和II中的濾液，通入足量氯氣；

IV.……，得到FeCl36H2O晶體。

（1）用FeCl3溶液腐蝕銅箔的離子方程式是 。

（2）試劑A是 。

（3）取少量步驟III所得的溶液于試管中，能夠證明通入氯氣足量的是 。

a.檢驗(yàn)Cl2的存在 b檢驗(yàn)Fe3+的存在 c.檢驗(yàn)Fe2+的不存在

（4）完成步驟IV需要用到的實(shí)驗(yàn)裝置是 （填字母）。

Answer 1

（1）2Fe3+ + Cu =2Fe2+ + Cu2+ （2）鹽酸 （3）ac （4）ab

【解析】

試題分析：(1)Fe3＋的氧化性強(qiáng)于Cu2＋的，根據(jù)氧化還原反應(yīng)中氧化劑的氧化性大于氧化產(chǎn)物的氧化性，2Fe3＋＋Cu=Cu2＋＋2Fe2＋；(2)I中加入過量Fe粉 ，濾渣中有Cu、Fe，為了得到純凈銅，不產(chǎn)生新的雜質(zhì)，試劑A應(yīng)是鹽酸；（3）證明氯氣過量，驗(yàn)證溶液中有氯氣的存在，可以用紅色布條；因?yàn)槁葰膺^量，F(xiàn)e2＋全部轉(zhuǎn)化成了Fe3＋，可以驗(yàn)證Fe2＋的是否存在，因此ac正確；（4）從溶液中得到晶體，一般采用蒸發(fā)操作法，b正確，當(dāng)有晶體析出時(shí)停止加熱，讓余溫蒸發(fā)剩下的水，得到固液共存的狀態(tài)，再采用過濾法，因此ab正確。

考點(diǎn)：考查鐵及其化合物、實(shí)驗(yàn)基本操作等相關(guān)知識(shí)。