Question

15．（1）SiO₂在自然界中廣泛存在，它是制備現(xiàn)代通訊材料光導(dǎo)纖維（寫該材料名稱）的主要原料；以SiO₂為原料，在工業(yè)上制備單質(zhì)硅的化學(xué)方程式為SiO₂+2C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+2CO↑；在常溫下，SiO₂可與一種酸發(fā)生反應(yīng)，該反應(yīng)的化學(xué)方程式為SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O．該反應(yīng)的重要應(yīng)用是刻蝕玻璃．
（2）檢驗(yàn)溶液中Fe³⁺存在的試劑是KSCN溶液，證明Fe³⁺存在的現(xiàn)象是溶液呈血紅色；電子工業(yè)常用30%的FeCl₃溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅以制造印刷電路板，該反應(yīng)的離子方程式為2Fe³⁺+Cu=Cu²⁺+2Fe²⁺．

Answer 1

分析 （1）光導(dǎo)纖維的主要成分是二氧化硅，二氧化硅與碳在高溫下反應(yīng)生成硅和一氧化碳，二氧化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和水，玻璃的主要成分含有二氧化硅，氫氟酸能夠腐蝕玻璃；
（2）三價鐵離子遇到硫氰酸鉀溶液顯血紅色，三價鐵離子氧化性強(qiáng)于銅離子，能夠與銅反應(yīng)生成銅離子和三價鐵離子．

解答 解：（1）光導(dǎo)纖維的主要成分是二氧化硅，二氧化硅與碳在高溫下反應(yīng)生成硅和一氧化碳，工業(yè)上以二氧化硅制備硅，方程式：SiO₂+2C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$ Si+2CO↑；二氧化硅與氫氟酸反應(yīng)生成四氟化硅和水，方程式：SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O，玻璃的主要成分含有二氧化硅，氫氟酸能夠腐蝕玻璃；
故答案為：光導(dǎo)纖維；SiO₂+2C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$ Si+2CO↑； SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O；刻蝕玻璃；
（2）三價鐵離子遇到硫氰酸鉀溶液顯血紅色，可以用硫氰酸鉀檢驗(yàn)三價鐵離子，三價鐵離子氧化性強(qiáng)于銅離子，能夠與銅反應(yīng)生成銅離子和三價鐵離子，方程式：2Fe³⁺+Cu=Cu²⁺+2Fe²⁺，
故答案為：KSCN溶液； 溶液呈血紅色； 2Fe³⁺+Cu=Cu²⁺+2Fe²⁺．

點(diǎn)評 本題考查了硅及其化合物的性質(zhì)、離子的檢驗(yàn)，熟悉二氧化硅的性質(zhì)和用途、明確三價鐵離子的檢驗(yàn)方法是解題關(guān)鍵，題目難度不大．