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A、從2L1mol?L-1的NaCl溶液中取出10 mL,其濃度仍是1 mol?L-1 |
B、制成0.5L 1 mol?L-1的鹽酸,需標(biāo)準(zhǔn)狀況下氯化氫氣體11.2 L |
C、1L1mol?L-1 BaCl2溶液中,Ba2+和Cl-總數(shù)為3×6.02×1023 |
D、10g98%硫酸(密度為1.84g?cm-3)與10mL 18.4 mol?L-1硫酸的濃度是不同的 |
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A、金屬在反應(yīng)中只能作還原劑,非金屬在反應(yīng)中只能作氧化劑 |
B、氧化劑在反應(yīng)中失去電子,還原劑在反應(yīng)中得到電子 |
C、氧化劑具有氧化性,還原劑具有還原性 |
D、陽離子只有氧化性,陰離子只有還原性 |
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A、KClO3中的氯元素被氧化 |
B、每生成1 molCl2轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為6mol |
C、還原劑是HCl |
D、Cl2既是氧化劑,又是還原劑 |
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A、用硅制造集成電路、晶體管等半導(dǎo)體器件 | ||||
B、在野外,用硅、石灰、燒堿的混合物制取氫氣:Si+Ca (OH)2+2NaOH=Na2SiO3+CaO+2H2↑ | ||||
C、用HF酸刻蝕玻璃:SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O | ||||
D、單質(zhì)硅的制備:SiO2+2C
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A、2Na2O2+2H2O=4NaOH+O2↑ 反應(yīng)中,Na2O2是氧化劑,H2O是還原劑 |
B、CaH2+2H2O=Ca(OH)2+2H2↑ 反應(yīng)中,Ca(OH)2既不是氧化產(chǎn)物也不是還原產(chǎn)物 |
C、KClO3+6HCl=KCl+3Cl2↑+3H2O 反應(yīng)中,轉(zhuǎn)移的電子數(shù)為6e- |
D、KClO3+6HCl=KCl+3Cl2↑+3H2O 反應(yīng)中,被氧化的氯元素與被還原的氯元素質(zhì)量比為6:1 |
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A、I2為氧化產(chǎn)物 |
B、H2O2既作氧化劑又作還原劑 |
C、氧化性強(qiáng)弱順序?yàn)镠2O2>I2 |
D、生成1 mol I2時(shí)轉(zhuǎn)移2 mol電子 |
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A、CH4--天然氣 |
B、CO2--水煤氣 |
C、CuSO4?5H2O--明礬 |
D、NaHCO3--蘇打粉 |
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